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전자빔 리소그래피 주사전자현미경

E-Beam Lithography SEM
대표 이미지
기본정보
기업명
한국과학기술원
기관주소
대전 유성구 대학로 291 (구성동)
기관 전화번호
042-350-****
휴대 전화번호
-
산업명
대학교
기업 정보
기업정보
시설장비명 한국과학기술원 영문장비명 E-Beam Lithography SEM
시설장비활용번호 Z-NTIS-0058640 시설 장비 등록 번호 NFEC-2015-09-204979
제작사 모델 명 TESCAN, sro VEGA3 LMH / ELPHY Quantum Lithography System 구축 일자 20150921
사용 용도 내용

분석시험 의뢰

표준 분류 내용

기계가공/시험장비 반도체장비 리소그래픽장비

설치 장소 내용

대전광역시 유성구 대학로 291 (구성동)3731F22319

장비 설명

주사전자현미경에 Beam Blanker를 장착하고, EBeam Drawing Software를 통해 Beam Blanker를 제어하여 Wafer 표면에 고정밀도의 나노패터닝을 하는 장비

구성 성능 내용

주요사항 및 특징 wafer 표면에 고정밀의 pattern을 drawing resolution: 3nm 재료 및 고분자 미세구조물 실시간 분석 미세구조 pattern 연구 배율: 최저 x2 최고 x1,000,000 전자빔 가속 전압: 200V30kV 스테이지 구동: 선형 1m 단위, 8080까지 스테이지 기울이기, 360 스테이지 자동 회전 등이 모터로 자동 구동 타사 제품과 달리 냉각수가 필요 없는 방식 자체 냉각 ELPHY Quantum Lihthography System hardware 와 software 사용

표준 분류 체계 내용

예약정보
기업정보
예약 문의 042-350-2509 장비 문의 042-350-2509
예약 기본 시간 내용 예약 기본 시간 : 60분 예약 추가 시간 내용 예약 추가 시간 : 0분
예약 최대 시간 내용 예약 최대 시간 : 0일9시간 0분 예약 간격 시간 내용 예약 간격 시간 : 0분
단가 명 0원 단위 명 시간
활용 범위 내용 공동활용서비스 활용 대상 내용 기관외부활용
요금 항목 명

(대표 이용 요금)

예약 방법 내용

실시간예약

취소 가능 시간 내용

취소 가능 시간 : 0시간 이용일시 기준 이상

이용 방법 내용 1

 대여시료의뢰직접사용

이용 방법 내용 2

* 예약시간 : 최소시간 1시간 / 최대시간 3시간<br>* 예약 가능일 : 6일 후 예약까지 상시 예약 가능<br>* On-line 예약 취소기한 : 24시간 전, off-line 취소 : 12시간 전<br>* 취소되지 않은 예약에 대해서는 정상적인 분석료가 부과되오니 양지하시기 바랍니다.<br>* 장비교육시 "장비점검/교육용" 첵크해 주세요.