시설장비명 | 한국과학기술원 | 영문장비명 | E-Beam Lithography SEM |
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시설장비활용번호 | Z-NTIS-0058640 | 시설 장비 등록 번호 | NFEC-2015-09-204979 |
제작사 모델 명 | TESCAN, sro VEGA3 LMH / ELPHY Quantum Lithography System | 구축 일자 | 20150921 |
사용 용도 내용 |
분석시험 의뢰 |
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표준 분류 내용 |
기계가공/시험장비 반도체장비 리소그래픽장비 |
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설치 장소 내용 |
대전광역시 유성구 대학로 291 (구성동)3731F22319 |
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장비 설명 |
주사전자현미경에 Beam Blanker를 장착하고, EBeam Drawing Software를 통해 Beam Blanker를 제어하여 Wafer 표면에 고정밀도의 나노패터닝을 하는 장비 |
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구성 성능 내용 |
주요사항 및 특징 wafer 표면에 고정밀의 pattern을 drawing resolution: 3nm 재료 및 고분자 미세구조물 실시간 분석 미세구조 pattern 연구 배율: 최저 x2 최고 x1,000,000 전자빔 가속 전압: 200V30kV 스테이지 구동: 선형 1m 단위, 8080까지 스테이지 기울이기, 360 스테이지 자동 회전 등이 모터로 자동 구동 타사 제품과 달리 냉각수가 필요 없는 방식 자체 냉각 ELPHY Quantum Lihthography System hardware 와 software 사용 |
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표준 분류 체계 내용 |
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예약 문의 | 042-350-2509 | 장비 문의 | 042-350-2509 |
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예약 기본 시간 내용 | 예약 기본 시간 : 60분 | 예약 추가 시간 내용 | 예약 추가 시간 : 0분 |
예약 최대 시간 내용 | 예약 최대 시간 : 0일9시간 0분 | 예약 간격 시간 내용 | 예약 간격 시간 : 0분 |
단가 명 | 0원 | 단위 명 | 시간 |
활용 범위 내용 | 공동활용서비스 | 활용 대상 내용 | 기관외부활용 |
요금 항목 명 |
(대표 이용 요금) |
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예약 방법 내용 |
실시간예약 |
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취소 가능 시간 내용 |
취소 가능 시간 : 0시간 이용일시 기준 이상 |
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이용 방법 내용 1 |
대여시료의뢰직접사용 |
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이용 방법 내용 2 |
* 예약시간 : 최소시간 1시간 / 최대시간 3시간<br>* 예약 가능일 : 6일 후 예약까지 상시 예약 가능<br>* On-line 예약 취소기한 : 24시간 전, off-line 취소 : 12시간 전<br>* 취소되지 않은 예약에 대해서는 정상적인 분석료가 부과되오니 양지하시기 바랍니다.<br>* 장비교육시 "장비점검/교육용" 첵크해 주세요. |